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https://hdl.handle.net/20.500.12394/8714
Title: | Resistencia a las fuerzas de cizallamiento de dos resinas fotopolimerizables usadas para adherir brackets |
Authors: | De La Cruz Quintanilla, Inelda |
metadata.dc.contributor.advisor: | Carrillo Fernández, Armando Moisés |
Keywords: | Dientes Tratamiento |
Publisher: | Universidad Continental |
Issue Date: | 2020 |
metadata.dc.date.available: | 31-Mar-2021 |
Citation: | De La Cruz, I. (2020). Resistencia a las fuerzas de cizallamiento de dos resinas fotopolimerizables usadas para adherir brackets. Trabajo académico para optar el título profesional de Segunda Especialidad Profesional en Ortodoncia y Ortopedia Maxilar, Escuela Académico Profesional de Odontología, Universidad Continental, Huancayo, Perú. |
Abstract: | El presente trabajo académico tiene como objetivo general comparar la resistencia de las fuerzas de cizallamiento de dos resinas fotopolimerizables, las cuales son usadas para adherir los brackets en ortodoncia. La metodología de estudio se aplicó a una muestra de 26 premolares y dividida en 2 grupos de premolares cada uno, el primer grupo constituido por brackets adheridos a los dientes mediante la resina fotopolimerizable de origen alemán y el segundo grupo mediante la resina fotopolimerizable de origen brasileño. |
Extension: | 17 páginas |
metadata.dc.rights.accessRights: | Acceso abierto |
metadata.dc.source: | Universidad Continental Repositorio Institucional - Continental |
Appears in Collections: | Tesis |
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