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Repositorio Institucional Continental


Please use this identifier to cite or link to this item: https://hdl.handle.net/20.500.12394/8714
Title: Resistencia a las fuerzas de cizallamiento de dos resinas fotopolimerizables usadas para adherir brackets
Authors: De La Cruz Quintanilla, Inelda
Adviser: Carrillo Fernández, Armando Moisés
Keywords: Dientes
Tratamiento
Publisher: Universidad Continental
Issue Date: 2020
Date available: 31-Mar-2021
Bibliographic citation: De La Cruz, I. (2020). Resistencia a las fuerzas de cizallamiento de dos resinas fotopolimerizables usadas para adherir brackets. Trabajo académico para optar el título profesional de Segunda Especialidad Profesional en Ortodoncia y Ortopedia Maxilar, Escuela Académico Profesional de Odontología, Universidad Continental, Huancayo, Perú.
Abstract: El presente trabajo académico tiene como objetivo general comparar la resistencia de las fuerzas de cizallamiento de dos resinas fotopolimerizables, las cuales son usadas para adherir los brackets en ortodoncia. La metodología de estudio se aplicó a una muestra de 26 premolares y dividida en 2 grupos de premolares cada uno, el primer grupo constituido por brackets adheridos a los dientes mediante la resina fotopolimerizable de origen alemán y el segundo grupo mediante la resina fotopolimerizable de origen brasileño.
metadata.dc.format.extent: 17 páginas
Access: Acceso abierto
Source: Universidad Continental
Repositorio Institucional - Continental
Appears in Collections:Tesis

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