Bitte benutzen Sie diese Kennung, um auf die Ressource zu verweisen: https://hdl.handle.net/20.500.12394/8714
Titel: Resistencia a las fuerzas de cizallamiento de dos resinas fotopolimerizables usadas para adherir brackets
Autor(en): De La Cruz Quintanilla, Inelda
metadata.dc.contributor.advisor: Carrillo Fernández, Armando Moisés
Stichwörter: Dientes
Tratamiento
Herausgeber: Universidad Continental
Erscheinungsdatum: 2020
metadata.dc.date.available: 31-Mär-2021
Zitierform: De La Cruz, I. (2020). Resistencia a las fuerzas de cizallamiento de dos resinas fotopolimerizables usadas para adherir brackets. Trabajo académico para optar el título profesional de Segunda Especialidad Profesional en Ortodoncia y Ortopedia Maxilar, Escuela Académico Profesional de Odontología, Universidad Continental, Huancayo, Perú.
Zusammenfassung: El presente trabajo académico tiene como objetivo general comparar la resistencia de las fuerzas de cizallamiento de dos resinas fotopolimerizables, las cuales son usadas para adherir los brackets en ortodoncia. La metodología de estudio se aplicó a una muestra de 26 premolares y dividida en 2 grupos de premolares cada uno, el primer grupo constituido por brackets adheridos a los dientes mediante la resina fotopolimerizable de origen alemán y el segundo grupo mediante la resina fotopolimerizable de origen brasileño.
Extension: 17 páginas
metadata.dc.rights.accessRights: Acceso abierto
metadata.dc.source: Universidad Continental
Repositorio Institucional - Continental
Enthalten in den Sammlungen:Tesis

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