Veuillez utiliser cette adresse pour citer ce document : https://hdl.handle.net/20.500.12394/8714
Titre: Resistencia a las fuerzas de cizallamiento de dos resinas fotopolimerizables usadas para adherir brackets
Auteur(s): De La Cruz Quintanilla, Inelda
metadata.dc.contributor.advisor: Carrillo Fernández, Armando Moisés
Mots-clés: Dientes
Tratamiento
Editeur: Universidad Continental
Date de publication: 2020
metadata.dc.date.available: 31-mar-2021
Référence bibliographique: De La Cruz, I. (2020). Resistencia a las fuerzas de cizallamiento de dos resinas fotopolimerizables usadas para adherir brackets. Trabajo académico para optar el título profesional de Segunda Especialidad Profesional en Ortodoncia y Ortopedia Maxilar, Escuela Académico Profesional de Odontología, Universidad Continental, Huancayo, Perú.
Résumé: El presente trabajo académico tiene como objetivo general comparar la resistencia de las fuerzas de cizallamiento de dos resinas fotopolimerizables, las cuales son usadas para adherir los brackets en ortodoncia. La metodología de estudio se aplicó a una muestra de 26 premolares y dividida en 2 grupos de premolares cada uno, el primer grupo constituido por brackets adheridos a los dientes mediante la resina fotopolimerizable de origen alemán y el segundo grupo mediante la resina fotopolimerizable de origen brasileño.
Extension: 17 páginas
metadata.dc.rights.accessRights: Acceso abierto
metadata.dc.source: Universidad Continental
Repositorio Institucional - Continental
Collection(s) :Tesis

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IV_FCS_506_TA_DeLaCruz_Quintanilla_2020.pdfDe La Cruz Quintanilla, Inelda193.04 kBAdobe PDF
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