Utilizza questo identificativo per citare o creare un link a questo documento: https://hdl.handle.net/20.500.12394/8714
Titolo: Resistencia a las fuerzas de cizallamiento de dos resinas fotopolimerizables usadas para adherir brackets
Autori: De La Cruz Quintanilla, Inelda
metadata.dc.contributor.advisor: Carrillo Fernández, Armando Moisés
Parole chiave: Dientes
Tratamiento
Editore: Universidad Continental
Data: 2020
metadata.dc.date.available: 31-mar-2021
Citazione: De La Cruz, I. (2020). Resistencia a las fuerzas de cizallamiento de dos resinas fotopolimerizables usadas para adherir brackets. Trabajo académico para optar el título profesional de Segunda Especialidad Profesional en Ortodoncia y Ortopedia Maxilar, Escuela Académico Profesional de Odontología, Universidad Continental, Huancayo, Perú.
Abstract: El presente trabajo académico tiene como objetivo general comparar la resistencia de las fuerzas de cizallamiento de dos resinas fotopolimerizables, las cuales son usadas para adherir los brackets en ortodoncia. La metodología de estudio se aplicó a una muestra de 26 premolares y dividida en 2 grupos de premolares cada uno, el primer grupo constituido por brackets adheridos a los dientes mediante la resina fotopolimerizable de origen alemán y el segundo grupo mediante la resina fotopolimerizable de origen brasileño.
Estensione: 17 páginas
metadata.dc.rights.accessRights: Acceso abierto
metadata.dc.source: Universidad Continental
Repositorio Institucional - Continental
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